禄存科技最新研发的高温型炉温测试仪,成功应用于12英寸晶圆退火工艺,温度控制精度达到0.2℃,为半导体制造提供可靠保障。

近日,禄存科技宣布其最新研发的高温型炉温测试仪成功应用于12英寸晶圆退火工艺,温度控制精度达到0.2℃,为半导体制造提供可靠保障。
随着芯片制程不断缩小,对温控精度的要求越来越高。禄存科技研发团队经过两年技术攻关,成功解决了高温环境下传感器漂移、信号干扰等技术难题,将测量精度提升至0.2℃级别。
技术突破
本次应用突破主要得益于以下技术创新:
- 新型耐高温传感器:采用特种合金材料,可在1600℃高温下稳定工作
- 动态补偿算法:实时校正温度漂移,确保长期稳定性
- 多通道同步采集:支持同时监控晶圆不同位置的温度分布
该技术的成功应用,标志着国产温控设备在高端制造领域取得重要突破,有望打破国外厂商在半导体温控领域的垄断地位。

“这是国产温控设备在半导体领域的重要里程碑,我们将继续加大研发投入,为国产芯片制造提供更好的温控解决方案。”—— 禄存科技研发总监






